一、設備概況

1.1應用領域：晶圓甩干機是高潔凈度沖洗甩干設備, 具有高潔凈沖洗，高速甩干，快速烘干，效率高的特點，不同晶圓尺寸，可通過快速更換轉(zhuǎn)子來實現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設備，設備本身有單腔室和雙腔室2種結(jié)構(gòu)，體型小運行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的高潔凈度沖洗及干燥工藝。

1.2名稱：雙腔室甩干機

1.3型號：CSM880S

1.4尺寸：710mm*520mm*1850mm  

1.5晶圓規(guī)格：2-8 英寸

1.6材質(zhì)：不銹鋼機架+10mm PP板外殼

1.7設備機架：SUS304不銹鋼材料，能夠滿足潔凈室工作環(huán)境。

1.8腔體和載體采用耐腐蝕SUS316L不銹鋼并電化學拋光。片架載體可方便更換。

1.9電機及轉(zhuǎn)子經(jīng)精密的動平衡處理，減少設備共振。

二、工藝流程

去離子水旋轉(zhuǎn)沖洗＋離心甩干氮氣烘干

建議工藝參數(shù)：

三、主要技術(shù)參數(shù)