一、設(shè)備概況

1.1應(yīng)用領(lǐng)域：晶圓甩干機是高潔凈度沖洗甩干設(shè)備, 具有高潔凈沖洗，高速甩干，快速烘干，效率高的特點，不同晶圓尺寸，可通過快速更換轉(zhuǎn)子來實現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備，設(shè)備本身有單腔室和雙腔室2種結(jié)構(gòu)，體型小運行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的高潔凈度沖洗及干燥工藝。

1.2名稱：雙腔室甩干機

1.3型號：CSM870S

1.4尺寸：710mm*460mm*1850mm  

1.5晶圓規(guī)格：2-6 英寸

二、主要結(jié)構(gòu)特征

2.1 結(jié)構(gòu)特征

雙腔室甩干機主要由主軸傳動部分，片盒夾具，工作腔，機架，門蓋部分，潔凈管路部分，電氣控制等組成。

2.1.1材質(zhì)：不銹鋼機架+10mm PP板外殼

2.1.2設(shè)備機架：SUS304不銹鋼材料，能夠滿足潔凈室工作環(huán)境。

2.1.3腔體和載體采用耐腐蝕SUS316L不銹鋼并電化學拋光。片架載體可方便更換。

2.1.4電機及轉(zhuǎn)子經(jīng)精密的動平衡處理，減少設(shè)備共振。

2.1.5采用專用定制無刷電機及控制器，保證設(shè)備的穩(wěn)定、可靠及滿足系統(tǒng)對潔凈度處理的要求。

2.1.6管路系統(tǒng)：PFA潔凈管路

2.2 工藝腔體及載體

2.2.1工藝腔數(shù)量∶2個 材質(zhì)為不銹鋼316L（腔體電解拋光處理）

2.2.2規(guī)格∶ 加工尺寸 2-6 英寸全高片盒，可兼容。

2.2.3工作轉(zhuǎn)速∶ 200—2200 RPM/MIN

2.2.4加熱功能∶ 氮氣加熱  腔體加熱

2.2.5軸封：電機轉(zhuǎn)軸采用氮氣軸封。

2.3 純水控制單元：

2.3.1采用扇形沖洗噴嘴。

2.3.2排水口安裝電阻率探頭，對腔體排水水質(zhì)進行監(jiān)測。

2.3.3沖洗工藝完成后，氮氣將殘留在沖洗管路內(nèi)的去離子水吹凈。

2.3.4待機時，保持回水盒內(nèi)有水流入且流量可調(diào)。

2.4 氮氣控制單元：

2.4.1管件閥門： SMC電磁閥、 PFA高純管件、 PTFE氣控閥門。

2.4.2氮氣加熱功能： 316不銹鋼加熱器在線加熱，溫度開關(guān)控制， 加熱溫度控制在 80℃。

2.4.3配置高潔凈型減壓閥，內(nèi)置氮氣過濾器，過濾精度 0.003μm。

2.5 防靜電控制單元：

2.5.1由高壓發(fā)生器、氮氣電離室及氮氣控制通道組成。

2.5.2當?shù)獨馔ㄟ^高壓發(fā)生器的控制區(qū)時，氮氣電離充斥整個工藝腔體，形成中和平衡消除靜電。

2.6 顆粒度：

顆粒增加值：需與客戶確認

2.7 電控單元及軟件系統(tǒng)：

2.7.1 甩干工藝過程由 PLC 控制器+觸摸屏控制，可選擇設(shè)置多種用戶工藝菜單，并對每 個菜單的內(nèi)容如：時間、速度參數(shù)進行設(shè)置。

2.7.2系統(tǒng)軟件還具有密碼權(quán)限設(shè)置，故障顯示及報警功能。設(shè)備出現(xiàn)故障時，系統(tǒng)會停止工作并顯示錯誤信息、報警以提示更改和維修。

2.8 工藝流程：

去離子水旋轉(zhuǎn)沖洗＋離心甩干氮氣烘干

建議工藝參數(shù)：

三、主要技術(shù)參數(shù)