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單片晶圓清洗機(jī),晶圓單片式清洗機(jī),晶圓清洗機(jī),濕法清洗機(jī)

一、設(shè)備概況1.1應(yīng)用領(lǐng)域:單片清洗甩干機(jī)是高潔凈度清洗甩干設(shè)備,具有高速甩干,快速烘干,效率高的特點(diǎn),不同晶圓尺寸,可通過快速更換甩干頭來實(shí)現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備,體型小運(yùn)行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的清洗干燥工藝。具有成本低,快速應(yīng)用生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。1.2名稱:單片清洗甩干機(jī)1.3型號:QSG-150二、主要結(jié)構(gòu)特征單片清洗甩干機(jī)主要伺服電機(jī),PLC控制器,

晶圓單片清洗機(jī),晶圓甩干機(jī),單晶爐,多晶爐,區(qū)熔爐,,晶片檢測強(qiáng)光燈,單片甩干機(jī),梅耶博格內(nèi)圓鋸,晶圓倒角機(jī)

晶圓單片清洗機(jī),晶圓甩干機(jī),單晶爐,多晶爐,區(qū)熔爐,,晶片檢測強(qiáng)光燈,單片甩干機(jī),梅耶博格內(nèi)圓鋸,晶圓倒角機(jī)

一、設(shè)備概況

1.1應(yīng)用領(lǐng)域:單片清洗甩干機(jī)是高潔凈度清洗甩干設(shè)備具有高速甩干,快速烘干,效率高的特點(diǎn),不同晶圓尺寸,可通過快速更換甩干頭來實(shí)現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備,體型小運(yùn)行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的清洗干燥工藝。具有成本低,快速應(yīng)用生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

1.2名稱:單片清洗甩干機(jī)

1.3型號:QSG-150

二、主要結(jié)構(gòu)特征

單片清洗甩干機(jī)主要伺服電機(jī),PLC控制器,人機(jī)界面,高潔凈閥門,PFA管,氮?dú)饧訜崞鳎栏g外殼,以及甩干頭等部分組成。

2.1材質(zhì):進(jìn)口PP板,能夠滿足潔凈室工作環(huán)境。

2.2專用伺服電機(jī),可實(shí)現(xiàn)每分鐘10-3000轉(zhuǎn),低速均勻清洗,高速離心甩干。

2.3工業(yè)PLC控制器和人機(jī)界面,穩(wěn)定可靠控制各個(gè)部件,直觀可視化操作模式。

2.4大功率氮?dú)饧訜崞?,快速加熱氮?dú)?,提高烘干效率?/span>

2.5甩干頭詳情 可根據(jù)客戶需要定制適用不同規(guī)格尺寸的甩干頭

三、主要技術(shù)參數(shù)

項(xiàng)目

主要性能指標(biāo)和參數(shù)

加工硅片尺寸

2-8 英寸圓片

單次甩干數(shù)量

1

工位數(shù)量(個(gè))

1

旋轉(zhuǎn)速度 RPM/MIN

10-3000

清洗甩干時(shí)間

2-5min

腔室及氮?dú)饧訜岱绞?/span>

電加熱器

氮?dú)鈮毫?/span>

0.25Mpa,氮?dú)夤芙涌?/span>6mm

純水壓力

0.15Mpa, 管接口6mm

排水管

12mm卡套接頭

控制系統(tǒng)

PLC可編程控制器

顯示

4.3寸觸摸屏

電源

220V

整機(jī)功率

2KW

外型尺寸(深**高)mm

365mm*300mm*535mm



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